全国首台国产商业电子束光刻机「羲之」正式投入市场，和 EUV 光刻机有何区别？如何影响半导体行业？

据国内媒体报道，近日，全国首台国产商业电子束光刻机在杭州「出炉」，其精度比肩国际主流设备，标志着量子芯片研发从此有了「中国刻刀」。 在杭州城西科创大走廊的浙江大学成果转化基地测试现场，一台模样酷似大型钢柜的机器正在做应用测试，电子显示屏上不断闪烁着实时参数。 团队负责人表示，这不是普通的机器，而是一支能在头发丝上雕刻出整座城市地图的「纳米神笔」。依托省重点实验室，这台研究院自主研发的新一代 100kV 电子束光刻机「羲之」已正式投入市场。 据了解，「羲之」取名自书法家王羲之，只不过它的‘毛笔’是电子束，在芯片上刻写电路。 研发团队相关负责人介绍，这台设备专攻量子芯片、新型半导体研发的核心环节，它通过高能电子束在硅基上「手写」电路，精度达到 0.6nm，线宽 8nm，可灵活修改设计无须掩膜版，如同用纳米级毛笔在芯片上精准作画，特别适合芯片研发初期的反复调试。 此前，此类设备受国际出口管制，中国科学技术大学、之江实验室等国内顶尖科研机构长期无法采购，「羲之」的落地有望打破这一困局。 其定价低于国际均价，目前已与多家企业及科研机构展开接洽。 那电子束光刻机和我们经常听到的 EUV 光刻机有何区别呢？ 电子束光刻机（Electron Beam Lithography，EBL）是半导体制造中一种关键的图形化技术。电子束光刻采用电子源，利用电子束轰击电子抗蚀剂，被电子辐照过的抗蚀剂发生分子链重组，从而留下相应痕迹。通过电磁场控制电子束的运动方向，改变电子束在抗蚀剂上写入的轨迹，进而在基底上得到需要的图案信息。 不过，电子束光刻机采用逐点扫描的方式，扫描速度慢，每几个小时才能 「雕刻」1 片晶圆，效率远低于 EUV 光刻机。但精度更高，如 「羲之」 电子束光刻机精度达 0.6nm。 相比之下，EUV 光刻机利用极紫外光（13.5nm）作为能量源，通过掩模版投影的方式，全片一次性曝光来实现图案转移，效率更高。精度相对较低，ASML 生产的 High NA EUV 光刻机精度可达 2nm 水平。 中国刻刀！首台国产商业电子束光刻机「羲之」出炉
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干了十年半导体，今早看到"羲之"光刻机发布的新闻，手一抖咖啡差点泼满屏幕。这哪是冷冰冰的设备，分明是给量子芯片研发定制的纳米级毛笔！去年给研究所采购设备，国外厂商鼻孔朝天甩报价单的模样还刻在脑门里，上亿的机器捆绑着霸王条款，活像签卖身契。如今看着"羲之"的参数表，喉咙里那口憋了多年的气总算能痛痛快快吐出来——去他娘的技术卡脖子！

这玩意的精妙处，得拿写字打比方。传统EUV好比高速印刷机，咔咔咔量产芯片；"羲之"却像握着电子束的书法大家，能在头发丝截面上临摹《兰亭序》。虽说磨洋工似的处理一片晶圆要耗几小时，可0.6nm的雕工比ASML最新款还精细三倍，活脱脱芯片界的微雕圣手。

最绝的是改设计像擦铅笔稿——传统光刻换次掩膜版如同重开印刷厂，烧钱又耗时。"羲之"笔锋一转就能重绘电路，简直是给研发人员喂后悔药！难怪敢用书圣名号，看工程师们调试参数时屏息凝神的架势，确有王羲之提笔前那股凝神静气的范儿。

不过眼下也就量子芯片这种烧钱的主儿用得顺手。我们实验室那台进口老爷机得再熬两年，等国产化成本打下来，我立马打报告申请换装备。想想以后调电路不用半夜等洋工程师回邮件，调试间里咖啡都能多喝两杯。（刚发现行业群早炸锅了，原来兄弟们都在偷偷刷新闻摸鱼）